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芯片界的重磅炸彈，1nm光刻機有突破了
芯片的制作工藝級別一直都是大家非常關(guān)注的問(wèn)題，從2004年的64納米工藝一直升級到現在的5納米工藝，足足用了16年時(shí)間之久，如今有消息傳出荷蘭的ASML公司已經(jīng)完成1nm光刻機設計，說(shuō)明1nm光刻機有突破了，并預計在2022年開(kāi)始商用，這消息一出宛如一顆重磅震撼彈般撼動(dòng)著(zhù)整個(gè)世界。
根據日媒11月30日消息，IMEC公司在ITF Japan 2020大會(huì )上公布了3nm、2nm、1.5nm以及1nm以下的邏輯器件小型化路線(xiàn)圖。根據IMEC公司首席執行官兼總裁Luc Van den hove的透露，IMEC公司與ASML公司緊密合作，將推進(jìn)下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)。并且目前ASML公司已經(jīng)完成了作為NXE:5000系列的高NA EUV曝光系統的基本設計，將應用于1nm光刻機，預計2022年即可商用。
在半導體領(lǐng)域有一個(gè)經(jīng)典理論，即“大約每?jì)赡?，晶體管密度就會(huì )增加1倍”，業(yè)內人通常把這個(gè)定律稱(chēng)之為摩爾定律。1納米工藝，曾是想都不敢想的，如今已有計劃實(shí)現，這怎能不引起全球的廣泛關(guān)注。
荷蘭ASML公司突破1nm光刻機固然是令人振奮的，不過(guò)這也讓大家關(guān)心國內的光刻機技術(shù)了，現在已經(jīng)商用的5納米的光刻機，而國內目前只能達到14納米工藝，5納米工藝預計我們國內預計還需要四、五年才能實(shí)現，也就是說(shuō)，現今國產(chǎn)光刻機的工藝和世界先進(jìn)水平的有兩代差距。
如今，荷蘭ASML公司1nm光刻機已經(jīng)完成1nm光刻機設計，留給國產(chǎn)光刻機的時(shí)間真的不多了，希望國內的科學(xué)家再加把勁，來(lái)個(gè)彎道超車(chē)，讓全世界都刮目相看。
